DNA损伤剂诱导端粒酶调节相关hALP基因表达及作用研究
摘要
目的确定端粒酶调节相关hALP基因对细胞DNA损伤的反应和作用.方法以DNA损伤剂H2O2和顺铂处理人HeLa、Hep2细胞,运用定量逆转录-聚合酶链反应和免疫荧光观察hALP 基因表达的改变,并以荧光素酶报告基因法测定hALP基因启动子活性变化. 通过四甲基偶氮唑盐(MTT)法分析不同hALP基因表达状态下DNA损伤剂对细胞生长的影响.结果 0.2～1.6 mmol/L H2O2可诱导hALP mRNA水平升高,当浓度为0.4 mmol/L时,hALP mRNA水平最高;以0.4 mmol/L H2O2处理细胞6 h即可观察到hALP mRNA水平显著升高,并在36 h内保持高水平.顺铂处理细胞也可以上调hALP的mRNA表达,并呈一定的剂量和时间依赖性.免疫荧光检测发现:在0.2或0.4 mmol/L H2O2、0.2或0.5 μmol/L 顺铂处理细胞12 h后,hALP的表达水平升高,并且多聚集于细胞核.H2O2和顺铂处理细胞时可通过hALP基因启动子-705 ～ +20 nt区域的序列上调其启动子转录活性.H2O2(0.4 mmol/L)或顺铂(0.5 μmol/L)处理HeLa细胞时,表达正义hALP基因的细胞生长仍活跃,而表达反义hALP基因和对照组细胞则生长相对缓慢.结论 DNA损伤可通过激活hALP基因启动子转录活性而上调其表达,hALP基因的表达可以增强细胞对H2O2和顺铂损伤的抵抗性.
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